时间:2024-01-11 17:28:12来源:
半导体靶材是用于物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)等制备薄膜工艺的关键材料。
以下是常见的半导体靶材类型:
1.硅(Si)靶材:
硅是最常见的半导体材料之一,用于生产晶体管、太阳能电池等。
2.氧化铝(Al2O3)靶材:
氧化铝常用于保护和加固半导体器件及其表面。
3.氮化硅(Si3N4)靶材:
氮化硅因其高热稳定性、耐久性和机械强度而被广泛应用于半导体制造领域。
4.氮化镓(GaN)靶材:
氮化镓被用于制造LED、LD等光电子器件。
5.氮化铝(AlN)靶材:
氮化铝具有高热稳定性、导热性和导电性,可用于制造高温、高频率的半导体器件。
6.氧化锌(ZnO)靶材:
氧化锌是一种重要的磁性材料,被广泛应用于荧光体、气敏传感器等领域。
7.碳化硅(SiC)靶材:
碳化硅具有高热稳定性、耐腐蚀性和机械强度,可用于制造高温、高压电器、电子元件等。
8.磷化铝(AlP)靶材:
磷化铝是一种具有优异光电性质和化学稳定性的半导体材料,应用于微波电子学、光电子器件等领域。
9.砷化镓(GaAs)靶材:
砷化镓是一种应用广泛的半导体材料,用于制造太阳能电池、LD、LED、光电传感器等。
10.磷化铟(InP)靶材:
磷化铟是一种半导体材料,具有高响应度、高移动性和低噪声等优异性能,被广泛应用于通讯、半导体光电子学等领域。
电容触摸屏用的镀膜基板是用磁控溅射工艺制造的。
在磁控溅射制程中用到的镀膜材料称为靶材。
用作电容触摸屏的靶材一般有:
InSn,Si,Ag,Al,Mo等
AZO靶材是一种铝掺杂的氧化锌透明导电薄膜,而ITO靶材是氧化铟掺杂的锡透明导电薄膜。
它们的区别在于主要的元素成分和掺杂元素不同。
此外,两种材料的透过率、电阻率和制备工艺也有所不同。
AZO靶材在某些情况下可以替代ITO靶材,而且AZO靶材的生产成本相对较低,因此在某些应用领域上更具有竞争力。
靶材在半导体中是属于上游材料