封测光刻机是什么（光刻机原理详细介绍）

封测光刻机是什么？

封测光刻机跟平常我们常提的光刻机不一样，属于后道光刻机。

后道光刻的精度要求远低于前道光刻的要求，因此封测光刻机制造相对容易，我国上海微电子在封测光刻机方面非常领先。

目前，上海微电子封测光刻机在国内市场的份额达到80%左右，全球市场也占40%。

光刻机除了按光源的先进程度分为EUV、DUV、UV外，按用途还可以分为芯片制造用的前道光刻机和封测用的后道光刻机。

光刻机原理详细介绍？

光刻机是一种将光线通过掩模板照射在光敏材料上的设备，用于制造微电子器件。

其原理是利用紫外光通过掩模板形成的图案，将光敏材料上的化学反应进行控制，从而形成所需的微细结构。

光刻机的核心部件是光源、掩模板、光学系统和光敏材料。

光源产生紫外光，光学系统将光线聚焦到掩模板上，掩模板上的图案通过透过或反射的方式传递到光敏材料上，形成所需的微细结构。